• 进口Dupont集团光刻胶KMPR 1010

    详细信息

     品牌:进口  型号:KMPR 1010   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 分辨率‌:未明确提及,但作为高端光刻胶,推测其分辨率可达亚微米级(<1μm)‌
    • 曝光波长‌:未直接说明,但同类产品通常适配i-line(365nm)或g-line(436nm)光源‌
    • 厚度控制‌:未明确数据,但屏蔽涂层光刻胶通常支持1-10μm厚度范围‌

    • 化学组成‌:未公开具体配方,但属于正性光刻胶体系,含感光剂、树脂及溶剂‌
    • 工艺兼容性‌:适用于lift-off工艺,与金属沉积(如Au、Al)兼容‌

    • 射频器件‌:用于制作GaN HEMT的T型栅极(栅长100nm级)‌
    • MEMS传感器‌:支持陀螺仪金电极阵列的剥离工艺‌

    • 硅光芯片‌:制作光栅耦合器金属反射镜(45°斜面结构)‌
    • TSV再布线‌:实现5μm厚铜柱的lift-off工艺‌
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