- 进口SU-8 2000系列SU-82000.2
详细信息
品牌:进口 型号:SU-82000.2 - 粘度范围:SU-82000.2属于高粘度光刻胶,典型值在2000-5000 mPa·s(25℃),适合厚膜涂覆(10-100μm)
- 分辨率:支持亚微米级图形(<1μm),通过优化曝光条件可实现纳米级结构
- 厚度控制:通过匀胶转速(如2000rpm)和加速度(500rpm/s)调节,胶厚均匀性误差<±5%
(2) 工艺要求
- 曝光条件:需使用365nm紫外光源,曝光剂量约200-400mJ/cm²,具体取决于基材和图形复杂度
- 后烘程序:分两阶段烘烤(如65℃/5min + 95℃/10min),确保交联反应完全
- 显影液:推荐使用SU-8专用显影剂(如PGMEA),显影时间与胶厚正相关
(1) 量子器件
- 超导量子电路:用于制作约瑟夫森结的绝缘层,耐受4K低温环境2
- 拓扑量子计算:配合电子束光刻制备马约拉纳零能模纳米线电极