• 进口EM PMMA 电子束光刻胶495K 0.1-1

    详细信息

     品牌:进口  型号:495K 0.1-1   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 涂覆方式‌:旋涂法为主,需控制转速以获得均匀膜厚‌
    • 显影液‌:常用丙酮或异丙醇/水混合溶液(正胶特性)
    • 耐温性‌:长期使用温度≤80℃,热膨胀系数较高‌

    • 纳米结构加工‌:用于制作50-100nm线宽的金属电极(如T-Gate剥离工艺)
    • 多层光刻‌:常与950K PMMA组成四层光刻胶堆栈(EL-6-PMMA 950K-LOR 5B-PMMA 495K)‌

    • 微机械结构‌:硅基MEMS器件的金属剥离工艺‌
    • 量子器件‌:超导量子电路中的约瑟夫森结加工‌
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