- 进口EM PMMA 电子束光刻胶35K 0.1-1.2
详细信息
品牌:进口 型号:35K 0.1-1.2 - X射线光刻:配合同步辐射光源实现亚微米级结构
- 混合曝光:与电子束光刻胶(如ZEP)双层堆叠使用
旋涂参数:
▸ 转速:2000-4000 rpm(胶厚1μm需3000rpm)
▸ 前烘:90-100℃/2分钟(热板)-
曝光剂量:
▸ 电子束:800-1200μC/cm²(加速电压20-30kV)
▸ 显影时间:30-60秒(MIBK=1:3,20℃)
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品牌:进口 | 型号:35K 0.1-1.2 |
曝光剂量:
▸ 电子束:800-1200μC/cm²(加速电压20-30kV)
▸ 显影时间:30-60秒(MIBK=1:3,20℃)