• 进口EM PMMA 电子束光刻胶35K 0.1-1.2

    详细信息

     品牌:进口  型号:35K 0.1-1.2   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • X射线光刻‌:配合同步辐射光源实现亚微米级结构
    • 混合曝光‌:与电子束光刻胶(如ZEP)双层堆叠使用

    旋涂参数‌:
    ▸ 转速:2000-4000 rpm(胶厚1μm需3000rpm)
    ▸ 前烘:90-100℃/2分钟(热板)

    • 曝光剂量‌:
      ▸ 电子束:800-1200μC/cm²(加速电压20-30kV)
      ▸ 显影时间:30-60秒(MIBK=1:3,20℃)

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