- 进口HSQ系列电子束光刻胶XR-1541-002
详细信息
品牌:进口 型号:XR-1541-002 - :适用于纳米级图形(具体数值未明确,但HSQ系列通常支持<10nm分辨率)。
- 灵敏度:需优化曝光剂量(典型值约100-300μC/cm²)
- 抗刻蚀性:曝光后形成的SiO₂结构具有优异的抗离子刻蚀能力。
- 工艺兼容性:需前烘处理以提高灵敏度和对比度,具体温度和时间需根据基板调整
- 量子器件:用于超导量子电路和拓扑量子计算的纳米结构加工。
- 射频器件:制作GaN HEMT的T型栅极,提升截止频率
- 传感器电极:支持三维非平面基板的lift-off工艺,如陀螺仪金电极阵列
- 二维材料器件:用于石墨烯晶体管和过渡金属硫化物的电极定位