• 进口HSQ系列电子束光刻胶XR-1541-004

    详细信息

     品牌:进口  型号:XR-1541-004   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
    • 分辨率‌:适用于纳米级图形(具体数值未明确,但HSQ系列通常支持<10nm分辨率)。
    • 灵敏度‌:需优化曝光剂量(典型值约100-300μC/cm²)。
    • 抗刻蚀性‌:曝光后形成的SiO₂结构具有优异的抗离子刻蚀能力。
    • 工艺兼容性‌:需前烘处理以提高灵敏度和对比度,具体温度和时间需根据基板调整。

    • 量子器件‌:用于超导量子电路和拓扑量子计算的纳米结构加工。
    • 射频器件‌:制作GaN HEMT的T型栅极,提升截止频率。

    • 传感器电极‌:支持三维非平面基板的lift-off工艺,如陀螺仪金电极阵列。
    • 二维材料器件‌:用于石墨烯晶体管和过渡金属硫化物的电极定位
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