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- 进口HSQ系列电子束光刻胶XR-1541-006
详细信息
品牌：进口 型号：XR-1541-006 厦门光刻胶 美国光刻胶- 分辨率：支持6纳米级别的图形定义，适用于无掩模电子束光刻技术
- 厚度范围：通过旋涂工艺可形成30-180纳米的薄膜，定制配方可调整厚度
- 显影特性：负性光刻胶，使用水基显影剂，边线定义精度达3.3纳米
- 前烘：需在电子束曝光前进行前烘处理，以提高灵敏度和对比度（具体温度和时间未明确）
- 显影液：通常使用高浓度TMAH（四甲基氢氧化铵）溶液，浓度影响显影速度和侧壁陡直度
- 去胶：曝光后形成非晶态SiO2，需用BHF（氢氟酸）去除，对衬底材料有限制
- 半导体制造：用于32纳米及以下节点的直写光刻工艺，支持高精度图案转移
- 科研领域：适用于量子器件、纳米光子学等前沿研究，如制作超材料吸收层或等离激元天线
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厦门芯磊贸易有限公司
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13394069946刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶 标准物质、化学试剂、实验室耗材、
进口HSQ系列电子束光刻胶XR-1541-006
页面价格仅供参考，具体请联系报价起批量 价格 - ≧1 瓶
￥20000.00
- 产品型号：XR-1541-006
- 品 牌：进口
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-10-10
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厦门芯磊贸易有限公司 电话：17720872082 手机：13394069946 地址： 厦门市湖里区林后社699内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
