• 进口HSQ系列电子束光刻胶fox15

    详细信息

     品牌:进口  型号:fox15   
    厦门光刻胶       美国光刻胶
    • 前烘‌:需在电子束曝光前进行前烘处理(温度和时间未明确),以提高灵敏度和对比度‌
    • 显影液‌:通常使用高浓度TMAH溶液,浓度影响显影速度和侧壁陡直度‌
    • 去胶‌:曝光后形成非晶态SiO2,需用BHF(氢氟酸)去除,对衬底材料有限制‌
    • 保存条件‌:需低温(如5℃)保存,质保期较短‌

    • 半导体制造‌:用于高精度图案转移,可能适用于32纳米及以下节点的直写光刻工艺‌
    • 科研领域‌:适用于量子器件、纳米光子学等前沿研究,如制作超材料吸收层或等离激元天线‌
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