• 进口HSQ系列电子束光刻胶fox16

    详细信息

     品牌:进口  型号:fox16   
    厦门光刻胶      美国光刻胶
    前烘 温度未明确,需优化以提升灵敏度 避免过度烘烤导致胶层开裂
    曝光 电子束剂量需精确控制(未公开数据) 邻近效应需通过软件补偿
    显影 水基显影剂(如TMAH) 浓度影响侧壁陡直度
    去胶 氢氟酸(BHF)去除非晶SiO₂ 对铝衬底有腐蚀风险

    特殊要求

    • 保存条件‌:需5℃低温存储,质保期短(通常<6个月)‌
    • 工艺难度‌:对基板清洁度敏感,需严格控湿(RH<30%)‌

    • 先进节点‌:用于32nm以下直写光刻,如量子点器件电极图案化‌
    • 掩模制作‌:作为Si刻蚀的硬掩模,侧壁角度>85°‌

    • 纳米光子学‌:制备等离激元天线(金纳米棒阵列)‌
    • 超材料‌:制作可见光波段超表面透镜
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