• 进口HSQ系列电子束光刻胶fox24

    详细信息

     品牌:进口  型号:fox24   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 前烘处理‌:电子束曝光前需进行前烘(具体温度未明确),以提高光刻胶的灵敏度和对比度‌
    • 显影液‌:通常采用0.1-0.3M的TMAH溶液,显影时间需优化以避免过度或不足显影‌
    • 去胶工艺‌:曝光后形成非晶态SiO2,需用BHF(氢氟酸)去除,对衬底材料(如硅、玻璃)有选择性限制‌
    • 保存条件‌:需低温(5℃)保存,质保期较短,需注意防潮和避光‌

    • 半导体制造‌:
      • 用于32纳米及以下节点的直写光刻工艺,支持高精度图案转移,如量子器件栅极制备‌
      • 在先进封装中用于再布线层(RDL)和硅通孔(TSV)的图形定义‌
    • 科研领域‌:
      • 纳米光子学:制作等离激元天线、超材料吸收层等结构‌
      • 二维材料器件:如石墨烯电极的精准图案化‌
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