- 进口HSQ系列电子束光刻胶fox24
详细信息
品牌:进口 型号:fox24 - 前烘处理:电子束曝光前需进行前烘(具体温度未明确),以提高光刻胶的灵敏度和对比度
- 显影液:通常采用0.1-0.3M的TMAH溶液,显影时间需优化以避免过度或不足显影
- 去胶工艺:曝光后形成非晶态SiO2,需用BHF(氢氟酸)去除,对衬底材料(如硅、玻璃)有选择性限制
- 保存条件:需低温(5℃)保存,质保期较短,需注意防潮和避光
- 半导体制造:
- 用于32纳米及以下节点的直写光刻工艺,支持高精度图案转移,如量子器件栅极制备
- 在先进封装中用于再布线层(RDL)和硅通孔(TSV)的图形定义
- 科研领域:
- 纳米光子学:制作等离激元天线、超材料吸收层等结构
- 二维材料器件:如石墨烯电极的精准图案化