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- 紫外负性光刻胶 - 湿法工艺NR71-1000PY
详细信息
型号：NR71-1000PY 品牌 产地 型号 厚度 曝光 应用 加工 特性 Futurrex 美国 NR71-1000PY 0.7μm~2.1μm 高温耐受 用于i线曝光的负胶 LEDOLED、
显示器、
MEMS、
封装、
生物芯片等
金属和介电
质上图案化，
不必使用RIE
加工器件的永
久性组成
（OLED显示
器上的间隔
区）凸点、
互连、空中
连接微通道显影时形成光刻胶倒
梯形结构
厚度范围：
0.5～20.0 μm
i、g和h线曝光波长
曝光
对生产效率的影响：
金属和介电质图案化
时省去干法刻蚀加工
不需要双层胶技术NR71-1500PY 1.3μm~3.1μm NR71-3000PY 2.8μm～6.3μm NR71-6000PY 5.7μm~12.2μm NR9-100PY 0.7μm~2.1μm 粘度增强 NR9-1500PY 1.3μm~3.1μm NR9-3000PY 2.8μm~6.3μm NR9-6000PY 5.7μm~12.2μm NR71G-1000PY 0.7μm~2.1μm 高温耐受 负胶对 g、h线波长的灵敏度 NR71G-1500PY 1.3μm~3.1μm NR71G-3000PY 2.8μm~6.3μm NR71G-6000PY 5.7μm~12.2μm NR9G-100PY 0.7μm～2.1μm 粘度增强 NR9G-1500PY 1.3μm～3.1μm NR9G-3000PY 2.8μm～6.3μm NR9G-6000PY 5.7μm~12.2μ 
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厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;电池板;粘着剂;清洗剂;漂洗液;剥离液;增附剂;灌封胶;光刻胶;
紫外负性光刻胶 - 湿法工艺NR71-1000PY
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：NR71-1000PY
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2024-12-03
合计：1台总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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