• 镍蚀刻剂TFB,TFG,I型

    详细信息

     型号:TFG,I型    
    用于制作薄膜电路)
     
    本品是适用于蒸发或电镀法镀制镍膜的蚀刻剂。这种蚀刻剂与阳性和阴性光刻胶都有良好的匹配性。它用于氧化铝基板上,是金、镍、镍铬或铬电阻的理想蚀刻剂。
     
    TFB
    用于蒸发镍薄膜上的标准镍蚀刻剂
    TFG
    用于蚀刻电沉积镍薄膜的高纯蚀刻剂。镍蚀刻剂TFG与铜、砷化镓以及其他Ⅲ-Ⅴ化合物相匹配。
    Ⅰ型
    用于蚀刻镍、镍-铁合金和不锈钢的高纯蚀刻剂
     
    特点
    ·廉价经济
    ·与阳性、阴性光刻胶都相匹配
    ·线条轮廓清晰
    ·蚀刻速率均匀
     
    说明
    Transene薄膜蚀刻剂(镍TFB和镍TFG)是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或电镀镍膜,镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。建议使用的光刻胶为AZ-111,AZ-1350OH和KMER。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。镍蚀刻剂TFG与铜相匹配。
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