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- 钛-钨蚀刻剂TiW-30
详细信息
型号：TiW-30 钛—钨TiW—30 说明
钛—钨TiW—30是微电子产品中钛—钨粘结层的选择蚀刻剂。TiW—30能有效地蚀刻沉积在铜、氮化硅和氧化硅上的钛—钨薄膜。TiW—30蚀刻的线路轮廓清晰、蚀刻速率可控。与阴、阳性光刻胶具有广泛的匹配性。
性质
外观 水白色 蚀刻速率，25℃ 10～15 Å/秒 操作温度 25～40℃ 冲洗 去离子水 贮存 0℃ 有效期 在25℃，2个月
在0℃，6个月
应用
钛—钨TiW—30是专门设计用来去除二氧化硅和氮化硅等基板上钛—钨合金粘结层的使用方便的溶液。TiW—30不浸蚀铜膜。将此蚀刻剂加热到40℃会加快对厚膜的蚀刻速率。 -
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厦门良厦贸易有限公司
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13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;清洗剂;剥离液;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶ALLRESIST
钛-钨蚀刻剂TiW-30
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：TiW-30
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-03-13
合计：1台总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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